光刻膠領(lǐng)域，我國(guó)取得新突破
炒股就看金麒麟分析師研報(bào)，光刻權(quán)威，膠領(lǐng)專業(yè)，域國(guó)及時(shí)，新突全面，光刻助您挖掘潛力主題機(jī)會(huì)！膠領(lǐng)
每經(jīng)AI快訊，域國(guó)光刻技術(shù)是新突推動(dòng)集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅(qū)動(dòng)力之一。近日，光刻北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術(shù)，膠領(lǐng)首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的域國(guó)微觀三維結(jié)構(gòu)、界面分布與纏結(jié)行為，新突指導(dǎo)開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的光刻產(chǎn)業(yè)化方案。相關(guān)論文近日刊發(fā)于《自然·通訊》。膠領(lǐng)
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